Οπτικός κυκλοφορητής 1310nm Κατασκευαστές

Λέιζερ-μια συσκευή ικανή να εκπέμπει φως λέιζερ. Ο πρώτος κβαντικός ενισχυτής μικροκυμάτων κατασκευάστηκε το 1954 και ελήφθη μια εξαιρετικά συνεκτική δέσμη μικροκυμάτων. Το 1958, οι A.L. Xiaoluo και C.H. Οι πόλεις επέκτειναν την αρχή του κβαντικού ενισχυτή μικροκυμάτων στο εύρος οπτικών συχνοτήτων. Το 1960 ο Τ.Η. Ο Mayman και άλλοι έφτιαξαν το πρώτο ρουμπινί λέιζερ. Το 1961, ο A. Jia Wen και άλλοι κατασκεύασαν ένα λέιζερ ηλίου-νέον. Το 1962, ο R.N. Ο Hall και άλλοι δημιούργησαν ένα λέιζερ ημιαγωγών αρσενιδίου γαλλίου. Στο μέλλον, θα υπάρχουν όλο και περισσότεροι τύποι λέιζερ. Σύμφωνα με το μέσο εργασίας, τα λέιζερ μπορούν να χωριστούν σε τέσσερις κατηγορίες: λέιζερ αερίου, λέιζερ συμπαγούς, λέιζερ ημιαγωγών και λέιζερ βαφής. Πρόσφατα αναπτύχθηκαν επίσης λέιζερ ελεύθερων ηλεκτρονίων. Τα λέιζερ υψηλής ισχύος έχουν συνήθως παλμική έξοδο.

Η λιθογραφία είναι μια τεχνική για τη μεταφορά ενός σχεδιασμένου σχεδίου απευθείας ή μέσω ενός ενδιάμεσου μέσου σε μια επίπεδη επιφάνεια, εξαιρουμένων των περιοχών της επιφάνειας που δεν απαιτούν σχέδιο.

Για την τεχνολογία φασματικής σύνθεσης, η αύξηση του αριθμού των συντιθέμενων υπο-ακτίνων λέιζερ είναι ένας από τους σημαντικούς τρόπους αύξησης της ισχύος σύνθεσης. Η επέκταση του φασματικού εύρους των λέιζερ ινών θα συμβάλει στην αύξηση του αριθμού των υπο-ακτίνων λέιζερ φασματικής σύνθεσης και στην αύξηση της ισχύος φασματικής σύνθεσης [44-45]. Επί του παρόντος, το εύρος σύνθεσης φάσματος που χρησιμοποιείται συνήθως είναι 1050～1072 nm. Η περαιτέρω επέκταση του εύρους μήκους κύματος των λέιζερ ινών στενού εύρους γραμμής στα 1030 nm έχει μεγάλη σημασία για την τεχνολογία σύνθεσης φάσματος. Ως εκ τούτου, πολλά ερευνητικά ιδρύματα έχουν επικεντρωθεί σε μικρού μήκους κύματος (μήκος κύματος μικρότερο από 1040 nm) μελετήθηκαν λέιζερ ευρείας ίνας στενής γραμμής. Αυτή η εργασία μελετά κυρίως το λέιζερ ινών 1030 nm και επεκτείνει το εύρος μήκους κύματος της φασματικά συντιθέμενης υποδέσμης λέιζερ στα 1030 nm.